電子工業(yè)

        電子元器件的制造需要大量高品質(zhì)的純水、超純水,電子級(jí)超純水是目前世界上純凈品質(zhì)要求較高的水.電子工業(yè)用的超純水，例如廣泛用于生產(chǎn)計(jì)算機(jī)硬盤，集成電路芯片，半導(dǎo)體，顯像管，液晶顯示器，線路板等用的純水，對(duì)水的純度要求較高，對(duì)出水電阻率的要求達(dá)到上(MΩ.cm)級(jí)。

　　在我國(guó)RO應(yīng)用于電子工業(yè)水處理的報(bào)道，可追溯到1981年，RO技術(shù)就己成功應(yīng)用于大規(guī)模集成電路超純水制備。此后，不斷出現(xiàn)RO制取超純水工藝流程研究和更大規(guī)模超純水制備的報(bào)道。2004年4月，國(guó)家海洋局杭州水處理技術(shù)開(kāi)發(fā)中心為樂(lè)金飛利浦曙光電子有限公司設(shè)計(jì)和建成的13Om3/hRO彩色顯象管廢水回收項(xiàng)目是RO純水制備技術(shù)在電子工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的拓展。該項(xiàng)目是迄今我國(guó)較大規(guī)模進(jìn)行彩色顯象管生產(chǎn)企業(yè)廢水回用項(xiàng)目。

　　通過(guò)國(guó)家“七五”、“八五”科技攻關(guān)項(xiàng)目的實(shí)施我國(guó)超純水制備系統(tǒng)工程設(shè)計(jì)和成套能力有了很大的提高,掌握了整套工程的系統(tǒng)工藝設(shè)計(jì)、設(shè)備制造和成套、安裝調(diào)試、技術(shù)培訓(xùn)等關(guān)鍵技術(shù),工程應(yīng)用技術(shù)已達(dá)到了國(guó)際水平。

　　隨著電子工業(yè)的發(fā)展對(duì)高純水提出了越來(lái)越高的要求。例如，制作16K位DRAM允許水中TOC(總有機(jī)碳)為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個(gè)/毫升;而制作16M位DRAM時(shí)，則要求TOC<5ppb、金屬離子<0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數(shù)為0.6個(gè)/升。

　　可以說(shuō)在電子級(jí)超純水制備系統(tǒng)中匯集了當(dāng)前水處理技術(shù)超棒的工藝和設(shè)備,如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(EDI)等,其中反滲透裝置是整個(gè)純水、超純水制備系統(tǒng)工程中一關(guān)鍵的設(shè)備.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無(wú)機(jī)物質(zhì)、99%以上的相對(duì)分子質(zhì)量大于300的有機(jī)物、99%以上的包括細(xì)菌在內(nèi)的各種微粒和95%以上的二氯化硅。

　　反滲透工藝在純水、超純水制備系統(tǒng)工程中的應(yīng)用,不但能提高了產(chǎn)水品質(zhì),降低生產(chǎn)成本,而且防止環(huán)境污染,有力地推進(jìn)了電子工業(yè)的進(jìn)步,同時(shí)也促進(jìn)了純水、超純水制造技術(shù)的發(fā)展.