電子工業(yè)

        電子元器件的制造需要大量高品質的純水、超純水,電子級超純水是目前世界上純凈品質要求較高的水.電子工業(yè)用的超純水，例如廣泛用于生產計算機硬盤，集成電路芯片，半導體，顯像管，液晶顯示器，線路板等用的純水，對水的純度要求較高，對出水電阻率的要求達到上(MΩ.cm)級。

　　在我國RO應用于電子工業(yè)水處理的報道，可追溯到1981年，RO技術就己成功應用于大規(guī)模集成電路超純水制備。此后，不斷出現(xiàn)RO制取超純水工藝流程研究和更大規(guī)模超純水制備的報道。2004年4月，國家海洋局杭州水處理技術開發(fā)中心為樂金飛利浦曙光電子有限公司設計和建成的13Om3/hRO彩色顯象管廢水回收項目是RO純水制備技術在電子工業(yè)領域應用的拓展。該項目是迄今我國較大規(guī)模進行彩色顯象管生產企業(yè)廢水回用項目。

　　通過國家“七五”、“八五”科技攻關項目的實施我國超純水制備系統(tǒng)工程設計和成套能力有了很大的提高,掌握了整套工程的系統(tǒng)工藝設計、設備制造和成套、安裝調試、技術培訓等關鍵技術,工程應用技術已達到了國際水平。

　　隨著電子工業(yè)的發(fā)展對高純水提出了越來越高的要求。例如，制作16K位DRAM允許水中TOC(總有機碳)為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個/毫升;而制作16M位DRAM時，則要求TOC<5ppb、金屬離子<0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數(shù)為0.6個/升。

　　可以說在電子級超純水制備系統(tǒng)中匯集了當前水處理技術超棒的工藝和設備,如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(EDI)等,其中反滲透裝置是整個純水、超純水制備系統(tǒng)工程中一關鍵的設備.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無機物質、99%以上的相對分子質量大于300的有機物、99%以上的包括細菌在內的各種微粒和95%以上的二氯化硅。

　　反滲透工藝在純水、超純水制備系統(tǒng)工程中的應用,不但能提高了產水品質,降低生產成本,而且防止環(huán)境污染,有力地推進了電子工業(yè)的進步,同時也促進了純水、超純水制造技術的發(fā)展.